ASMLとImecが共同で「High NA EUV Lithography Lab」を開設、顧客の装置導入を支援

オランダのASMLとベルギーのImecは、次世代半導体の開発を加速させるため、ASMLのHigh NA EUVリソグラフィ装置（TWINSCAN EXE:5000）及び関連ツールへのアクセスを最先端のロジックおよびメモリ [&hellip;]